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Alignment for double-side deep-exposure lithography tool 会议论文
, 2010
Authors:  Ma Ping;  Fu Xiaofang;  Yang Chunli;  Hu Song;  Tang Xiaoping
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新型URE-2000S型紫外单、双面深度光刻机研制 期刊论文
微纳电子技术, 2005, 卷号: 42, 期号: 8, 页码: 388-391
Authors:  马平;  杨春利;  胡松;  赵立新
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用于MEMS加工的双面深度光刻机对准系统设计 期刊论文
电子工业专用设备, 2003, 期号: 2, 页码: 36~39
Authors:  马平;  唐小萍;  杨春利
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