IOE OpenIR  > 微电子装备总体研究室(四室)
光刻机调平调焦台精度指标分解方法研究
周清华; 胡松; 杜靖; 王建
2016
发表期刊电子工业专用设备
期号1页码:15-18+23
摘要为了提高光刻机调平调焦台的重复定位精度,对其调平调焦台的精度指标分解开展研究。首先,应用几何关系,建立调平调焦总指标与逻辑轴之间的关系;再应用运动学原理,建立调平调焦台通用机构的逻辑轴和物理轴之间的运动关系;接着,应用函数误差原理,建立调平调焦台的精度指标分解模型。然后,采用压电陶瓷作为驱动、柔性簧片作为导向、压电陶瓷内置电容作为传感器搭建重复定位精度要求为100 nm的实验测试平台;最后实验测试平台测试结果显示,定位精度可达到90 nm,从而验证了该光刻机调平调焦台精度指标分解模型的正确性。
关键词光刻机 调平调焦台 精度指标分解 函数误差原理
语种中文
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/8755
专题微电子装备总体研究室(四室)
作者单位中国科学院光电技术研究所,四川成都610209
第一作者单位中国科学院光电技术研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
周清华,胡松,杜靖,等. 光刻机调平调焦台精度指标分解方法研究[J]. 电子工业专用设备,2016(1):15-18+23.
APA 周清华,胡松,杜靖,&王建.(2016).光刻机调平调焦台精度指标分解方法研究.电子工业专用设备(1),15-18+23.
MLA 周清华,et al."光刻机调平调焦台精度指标分解方法研究".电子工业专用设备 .1(2016):15-18+23.
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