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IOE OpenIR  > 微细加工光学技术国家重点实验室(开放室)  > 期刊论文
题名:
光瞳滤波光刻图形质量影响因素分析
作者: 陈旭南 ; 石建平 ; 罗先刚 ; 康西巧
刊名: 微纳电子技术
出版日期: 2004
卷号: 41, 期号:9, 页码:41-43
通讯作者: 陈旭南
文章类型: 期刊论文
收录类别: 其他
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/865
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陈旭南,石建平,罗先刚,等. 光瞳滤波光刻图形质量影响因素分析[J]. 微纳电子技术,2004,41(9):41-43.
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