Knowledge Management System Of Institute of optics and electronics, CAS
离子束溅射制备Ta2O5/SiO2薄膜的应力特性研究 | |
余琪1,2 | |
Subtype | 硕士 |
Thesis Advisor | 官春林 |
2017-05 | |
Degree Grantor | 中国科学院研究生院 |
Place of Conferral | 北京 |
Keyword | 薄膜应力 离子束溅射技术 光学薄膜 有限元分析 |
Subject Area | 光学 |
Document Type | 学位论文 |
Identifier | http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/8136 |
Collection | 光电技术研究所博硕士论文 |
Affiliation | 1.中国科学院光电技术研究所 2.中国科学院大学 |
Recommended Citation GB/T 7714 | 余琪. 离子束溅射制备Ta2O5/SiO2薄膜的应力特性研究[D]. 北京. 中国科学院研究生院,2017. |
Files in This Item: | ||||||
File Name/Size | DocType | Version | Access | License | ||
学位论文.pdf(3694KB) | 学位论文 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | Application Full Text |
Items in the repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.
Edit Comment