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| 离子束溅射制备Ta2O5/SiO2薄膜的应力特性研究 | |
| 余琪1,2 | |
| Subtype | 硕士 |
| Thesis Advisor | 官春林 |
| 2017-05 | |
| Degree Grantor | 中国科学院研究生院 |
| Place of Conferral | 北京 |
| Keyword | 薄膜应力 离子束溅射技术 光学薄膜 有限元分析 |
| Subject Area | 光学 |
| Document Type | 学位论文 |
| Identifier | http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/8136 |
| Collection | 光电技术研究所博硕士论文 |
| Affiliation | 1.中国科学院光电技术研究所 2.中国科学院大学 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 余琪. 离子束溅射制备Ta2O5/SiO2薄膜的应力特性研究[D]. 北京. 中国科学院研究生院,2017. |
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| File Name/Size | DocType | Version | Access | License | ||
| 学位论文.pdf（3694KB） | 学位论文 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | Application Full Text | ||
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