Knowledge Management System Of Institute of optics and electronics, CAS
| 离子束溅射制备Ta2O5/SiO2薄膜的应力特性研究 | |
| 余琪1,2 | |
| 学位类型 | 硕士 |
| 导师 | 官春林 |
| 2017-05 | |
| 学位授予单位 | 中国科学院研究生院 |
| 学位授予地点 | 北京 |
| 关键词 | 薄膜应力 离子束溅射技术 光学薄膜 有限元分析 |
| 学科领域 | 光学 |
| 文献类型 | 学位论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/8136 |
| 专题 | 光电技术研究所博硕士论文 |
| 作者单位 | 1.中国科学院光电技术研究所 2.中国科学院大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 余琪. 离子束溅射制备Ta2O5/SiO2薄膜的应力特性研究[D]. 北京. 中国科学院研究生院,2017. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 学位论文.pdf（3694KB） | 学位论文 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 | ||
| 个性服务 |
| 推荐该条目 |
| 保存到收藏夹 |
| 查看访问统计 |
| 导出为Endnote文件 |
| 谷歌学术 |
| 谷歌学术中相似的文章 |
| [余琪]的文章 |
| 百度学术 |
| 百度学术中相似的文章 |
| [余琪]的文章 |
| 必应学术 |
| 必应学术中相似的文章 |
| [余琪]的文章 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论