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IOE OpenIR  > 薄膜光学技术研究室（十一室）  > 会议论文
题名:
射频功率对类金刚石薄膜性能的影响
作者: 陈林林; 张殷华; 黄伟
出版日期: 2012
会议名称: 第十届全国光电技术学术交流会论文集
会议日期: 2012
关键词: 射频等离子体化学气相沉积 ; 类金刚石薄膜 ; 射频功率 ; Raman光谱
通讯作者: 陈林林
中文摘要: 利用射频等离子体化学气相沉积技术在硅基底上沉积类金刚石薄膜,利用红外透射光谱、椭圆偏振仪、Raman光谱等测试手段,研究在不同的射频功率条件下制备的类金刚石薄膜性质的变化。实验表明:随着功率的增加,薄膜中的SP3含量逐渐减少,薄膜的折射率在660-860W逐渐降低,在860-910W范围内逐渐增加,在910-960W范围内逐渐减小。薄膜的硬度随着功率的增加先增加后减小。最佳沉积功率为860W。
语种: 中文
卷号: 1
文章类型: 会议论文
内容类型: 会议论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7852
Appears in Collections:薄膜光学技术研究室（十一室）_会议论文

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2012-1165.pdf（603KB）会议论文--限制开放
CC BY-NC-SA
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作者单位: 1.中国科学院光电技术研究所
2.中国科学院研究生院

Recommended Citation:
陈林林,张殷华,黄伟. 射频功率对类金刚石薄膜性能的影响[C]. 见:第十届全国光电技术学术交流会论文集. 2012.
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