IOE OpenIR  > 薄膜光学技术研究室(十一室)
射频功率对类金刚石薄膜性能的影响
陈林林; 张殷华; 黄伟
Volume1
2012
Language中文
Subtype会议论文
Abstract利用射频等离子体化学气相沉积技术在硅基底上沉积类金刚石薄膜,利用红外透射光谱、椭圆偏振仪、Raman光谱等测试手段,研究在不同的射频功率条件下制备的类金刚石薄膜性质的变化。实验表明:随着功率的增加,薄膜中的SP3含量逐渐减少,薄膜的折射率在660-860W逐渐降低,在860-910W范围内逐渐增加,在910-960W范围内逐渐减小。薄膜的硬度随着功率的增加先增加后减小。最佳沉积功率为860W。
Keyword射频等离子体化学气相沉积 类金刚石薄膜 射频功率 Raman光谱
Conference Name第十届全国光电技术学术交流会论文集
Conference Date2012
Document Type会议论文
Identifierhttp://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7852
Collection薄膜光学技术研究室(十一室)
Corresponding Author陈林林
Affiliation1.中国科学院光电技术研究所
2.中国科学院研究生院
Recommended Citation
GB/T 7714
陈林林,张殷华,黄伟. 射频功率对类金刚石薄膜性能的影响[C],2012.
Files in This Item:
File Name/Size DocType Version Access License
2012-1165.pdf(603KB)会议论文 开放获取CC BY-NC-SAApplication Full Text
Related Services
Recommend this item
Bookmark
Usage statistics
Export to Endnote
Google Scholar
Similar articles in Google Scholar
[陈林林]'s Articles
[张殷华]'s Articles
[黄伟]'s Articles
Baidu academic
Similar articles in Baidu academic
[陈林林]'s Articles
[张殷华]'s Articles
[黄伟]'s Articles
Bing Scholar
Similar articles in Bing Scholar
[陈林林]'s Articles
[张殷华]'s Articles
[黄伟]'s Articles
Terms of Use
No data!
Social Bookmark/Share
All comments (0)
No comment.
 

Items in the repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.