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采用一次曝光制备连续面形螺旋相位板的方法
作者: 史立芳,曹阿秀,郭书基
刊名: 光学学报
出版日期: 2015
卷号: 35, 期号:s1, 页码:314-319
关键词: 光学制造 ; 光学漩涡 ; 光刻 ; 微光学元件
通讯作者: 史立芳
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 提供了一种制备连续面形螺旋位相板(SPP)的方法。通过将三维目标面形在一维方向上按照一定的间隔进行抽样处理,进而将获得的样条按照比例平铺在抽样空间内,获得与目标面形对应的二维掩模结构图形;利用该掩模结构在抽样方向上进行一次曝光即可获得目标面形。对该抽样方法、结构参数进行了分析,并且针对该方法开展了制备技术研究,制备出了4种电荷数分别为1,3,10和20的螺旋相位片,其适用波长为532 nm,并对其光学效果进行了测试。
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7358
Appears in Collections:微电子装备总体研究室(四室)_期刊论文

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2015-1099.pdf(4221KB)期刊论文作者接受稿开放获取View 联系获取全文

作者单位: 中国科学院光电技术研究所

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史立芳,曹阿秀,郭书基. 采用一次曝光制备连续面形螺旋相位板的方法[J]. 光学学报,2015,35(s1):314-319.
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