IOE OpenIR  > 微电子装备总体研究室(四室)
基于接近式光刻机的掩模移动曝光对准系统设计
佟军民; 胡松
Source Publication制造技术与机床
Issue8Pages:47-50
2015
Language中文
Subtype期刊论文
Abstract提出了一种用于接近式光刻机的掩模移动曝光CCD图象对准系统,可以实现连续浮雕微光学元件的制作。由一次预对准和一次精对准实现基片的安装定位,先后通过两次预对准和两次精对准实现掩模的两次安装定位。CCD图象对准系统由两支完全相同且相互独立的光路组成,各光路分别照明掩模和基片上的标记后,清晰地呈现在CCD象面上,采集卡将CCD采集到的数据送入计算机,进行算法处理,给出X、Y、θ的偏差,从而调节掩模和基片的相对位置。该方案可以获得优于1μm的对准精度,工作更为方便、易升级为自动对准。
Keyword掩模移动曝光技术 接近式光刻机 对准系统 对准精度
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7356
Collection微电子装备总体研究室(四室)
Corresponding Author佟军民
Affiliation1.许昌职业技术学院
2.中国科学院光电技术研究所
Recommended Citation
GB/T 7714
佟军民,胡松. 基于接近式光刻机的掩模移动曝光对准系统设计[J]. 制造技术与机床,2015(8):47-50.
APA 佟军民,&胡松.(2015).基于接近式光刻机的掩模移动曝光对准系统设计.制造技术与机床(8),47-50.
MLA 佟军民,et al."基于接近式光刻机的掩模移动曝光对准系统设计".制造技术与机床 .8(2015):47-50.
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