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题名:
基于接近式光刻机的掩模移动曝光对准系统设计
作者: 佟军民; 胡松
刊名: 制造技术与机床
出版日期: 2015
期号: 8, 页码:47-50
关键词: 掩模移动曝光技术 ; 接近式光刻机 ; 对准系统 ; 对准精度
通讯作者: 佟军民
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 提出了一种用于接近式光刻机的掩模移动曝光CCD图象对准系统,可以实现连续浮雕微光学元件的制作。由一次预对准和一次精对准实现基片的安装定位,先后通过两次预对准和两次精对准实现掩模的两次安装定位。CCD图象对准系统由两支完全相同且相互独立的光路组成,各光路分别照明掩模和基片上的标记后,清晰地呈现在CCD象面上,采集卡将CCD采集到的数据送入计算机,进行算法处理,给出X、Y、θ的偏差,从而调节掩模和基片的相对位置。该方案可以获得优于1μm的对准精度,工作更为方便、易升级为自动对准。
项目资助者: 国家自然科学基金(61376110 ; 61274108)
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7356
Appears in Collections:微电子装备总体研究室(四室)_期刊论文

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2015-1092.pdf(1111KB)期刊论文作者接受稿开放获取View 联系获取全文

作者单位: 1.许昌职业技术学院
2.中国科学院光电技术研究所

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佟军民,胡松. 基于接近式光刻机的掩模移动曝光对准系统设计[J]. 制造技术与机床,2015(8):47-50.
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