| 题名: | 基于叠栅条纹相位解析的纳米检焦方法 |
| 作者: | 冯金花; 胡松; 李艳丽; 何渝
|
| 刊名: | 光学学报
|
| 出版日期: | 2015
|
| 卷号: | 35, 期号:2, 页码:202-207 | | 关键词: | 测量
; 纳米检焦
; 相位解析
; 光弹调制
; 横向剪切板
|
| DOI: | 10.3788/AOS201535.0212005
|
| 通讯作者: | 冯金花
|
| 文章类型: | 期刊论文
|
| 中文摘要: | 随着光刻机分辨力节点的提高,纳米级的高精度检焦技术变得愈发重要。针对投影光刻的特点,介绍了一种基于叠栅条纹相位解析的纳米检焦方法。此方法基于三角法测量原理,通过光弹调制器和横向剪切板的光学调制、平行平板的相位调整,硅片位移的变化会引起调制光强发生正余弦变化。根据光强的正余弦变化,求出焦面位移量。经实验与数据分析,该方法具有纳米级的检焦精度,且具有实时性强、非接触等特点,能满足100 nm投影光刻中焦面检测的需要。 |
| 收录类别: | Ei
|
| 项目资助者: | 国家自然科学基金(61376110)
|
| 语种: | 中文
|
| Citation statistics: |
|
| 内容类型: | 期刊论文
|
| URI标识: | http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7342
|
| Appears in Collections: | 微电子装备总体研究室（四室）_期刊论文
|
| File Name/ File Size |
Content Type |
Version |
Access |
License |
|
|---|
| 2015-1016.pdf（2185KB） | 期刊论文 | 作者接受稿 | 开放获取 | | View
联系获取全文 |
|
|
作者单位: | 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
|
| Recommended Citation: | |
冯金花,胡松,李艳丽,等. 基于叠栅条纹相位解析的纳米检焦方法[J]. 光学学报,2015,35(2):202-207.
|
|
|
