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题名:
基于叠栅条纹相位解析的纳米检焦方法
作者: 冯金花; 胡松; 李艳丽; 何渝
刊名: 光学学报
出版日期: 2015
卷号: 35, 期号:2, 页码:202-207
关键词: 测量 ; 纳米检焦 ; 相位解析 ; 光弹调制 ; 横向剪切板
DOI: 10.3788/AOS201535.0212005
通讯作者: 冯金花
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 随着光刻机分辨力节点的提高,纳米级的高精度检焦技术变得愈发重要。针对投影光刻的特点,介绍了一种基于叠栅条纹相位解析的纳米检焦方法。此方法基于三角法测量原理,通过光弹调制器和横向剪切板的光学调制、平行平板的相位调整,硅片位移的变化会引起调制光强发生正余弦变化。根据光强的正余弦变化,求出焦面位移量。经实验与数据分析,该方法具有纳米级的检焦精度,且具有实时性强、非接触等特点,能满足100 nm投影光刻中焦面检测的需要。
收录类别: Ei
项目资助者: 国家自然科学基金(61376110)
语种: 中文
Citation statistics:
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7342
Appears in Collections:微电子装备总体研究室(四室)_期刊论文

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2015-1016.pdf(2185KB)期刊论文作者接受稿开放获取View 联系获取全文

作者单位: 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室

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冯金花,胡松,李艳丽,等. 基于叠栅条纹相位解析的纳米检焦方法[J]. 光学学报,2015,35(2):202-207.
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