IOE OpenIR  > 微电子装备总体研究室(四室)
单幅圆条纹相位展开光刻对准研究
徐锋; 胡松
Source Publication光子学报
Volume43Issue:11Pages:141-146
2014
Language中文
Subtype期刊论文
Abstract针对光刻对准中产生的单幅封闭干涉条纹经相位解析后获得的包裹相位,提出在极坐标系对其进行相位展开进而获得对准偏移量的方法.该方法首先将对准过程中两圆光栅相对移动产生条纹的相位分布从直角坐标系转换到极坐标系;其次分析在极坐标系下对准偏移量与相位参量的关系;最后通过取不同径向半径获得初始相位振幅与相位延迟进而求取对准偏移量.数值模拟与实验验证该方法的可行性并与传统的最小二乘与路径跟踪相位展开方法进行了对比分析.结果表明该方法对包裹相位进行展开进而达到几十纳米量级的高准确度对准,具有很强的适应性.
Keyword信息光学 光刻 对准 相位展开 包裹相位 封闭条纹 极坐标
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7318
Collection微电子装备总体研究室(四室)
Corresponding Author徐锋
Affiliation1.西南科技大学信息工程学院
2.特殊环境机器人技术四川省重点实验室
3.中国科学院光电技术研究所
Recommended Citation
GB/T 7714
徐锋,胡松. 单幅圆条纹相位展开光刻对准研究[J]. 光子学报,2014,43(11):141-146.
APA 徐锋,&胡松.(2014).单幅圆条纹相位展开光刻对准研究.光子学报,43(11),141-146.
MLA 徐锋,et al."单幅圆条纹相位展开光刻对准研究".光子学报 43.11(2014):141-146.
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