IOE OpenIR  > 微电子装备总体研究室(四室)
DMD无掩模光刻机主控软件系统的设计
冯金花; 胡松; 李艳丽; 何渝
Source Publication微纳电子技术
Volume51Issue:10Pages:673-678
2014
Language中文
Subtype期刊论文
Abstract根据无掩模光刻机的整体结构和工作流程,开发了一款适用于DMD无掩模光刻机的曝光软件。对系统进行了整合,运用开发环境VS2010实现了各个独立的模块的设计。通过串口通信的方式与下位机建立连接,实现对工件台的控制;依托Access2007创建数据库,管理曝光数据及工艺文件;采用图像处理算法和坐标转换技术,实现了曝光过程中的实时自动调焦和套刻对准功能,具有良好的人机交互界面。实验结果表明,软件界面设计友好,上、下位机数据传输稳定,能对工艺文件和曝光实验数据进行管理;上位机软件实现的自动调焦和自动对准功能具有很好的稳定性和可靠性。
Keyword无掩模光刻 数字光刻 数据管理 调焦 对准
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7314
Collection微电子装备总体研究室(四室)
Corresponding Author冯金花
Affiliation中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
Recommended Citation
GB/T 7714
冯金花,胡松,李艳丽,等. DMD无掩模光刻机主控软件系统的设计[J]. 微纳电子技术,2014,51(10):673-678.
APA 冯金花,胡松,李艳丽,&何渝.(2014).DMD无掩模光刻机主控软件系统的设计.微纳电子技术,51(10),673-678.
MLA 冯金花,et al."DMD无掩模光刻机主控软件系统的设计".微纳电子技术 51.10(2014):673-678.
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