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题名:
接近式光刻对准中的叠栅干涉测角方法
作者: 佟军民; 周绍林; 赵立新; 胡松
刊名: 中国激光
出版日期: 2014
期号: 12, 页码:162-168
关键词: 测量 ; 干涉测量 ; 叠栅技术 ; 微细加工 ; 光刻
通讯作者: 佟军民
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 干涉测量是众多科学与工程领域广泛采用的精密计量手段。探索了一种方便可控的基于双光栅衍射的叠栅干涉相敏测角方法,可直接用于接近式光刻过程中掩模衬底的倾斜矫正及面内角调节,便于微纳米器件及微光电子系统集成等相关应用。本方法旨在分别利用双光栅多次衍射产生的对称与相似级次,实现(m,-m)级叠栅干涉与(m,0)级叠栅干涉,产生相位与二者相对倾斜角、面内角有关的场分布。分析推导了叠栅干涉测角的基本原理,然后介绍相应的(m,-m)级与(m,0)级干涉测角方案设计。具体而言,二者均类似地根据条纹偏转及频率变化分别以离轴与同轴的方式监测倾斜及面内偏转角度。设计相应的组合光栅标记进行实验验证。实验结果及分析表明...
收录类别: Ei
项目资助者: 国家自然科学基金(61376110,61274108)
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7309
Appears in Collections:微电子装备总体研究室(四室)_期刊论文

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2014-1005.pdf(2645KB)期刊论文作者接受稿开放获取View 联系获取全文

作者单位: 1.许昌职业技术学院机电工程系
2.中国科学院光电技术研究所

Recommended Citation:
佟军民,周绍林,赵立新,等. 接近式光刻对准中的叠栅干涉测角方法[J]. 中国激光,2014(12):162-168.
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