IOE OpenIR  > 微电子装备总体研究室(四室)
接近式光刻对准中的叠栅干涉测角方法
佟军民; 周绍林; 赵立新; 胡松
Source Publication中国激光
Issue12Pages:162-168
2014
Language中文
Indexed ByEi
Subtype期刊论文
Abstract干涉测量是众多科学与工程领域广泛采用的精密计量手段。探索了一种方便可控的基于双光栅衍射的叠栅干涉相敏测角方法,可直接用于接近式光刻过程中掩模衬底的倾斜矫正及面内角调节,便于微纳米器件及微光电子系统集成等相关应用。本方法旨在分别利用双光栅多次衍射产生的对称与相似级次,实现(m,-m)级叠栅干涉与(m,0)级叠栅干涉,产生相位与二者相对倾斜角、面内角有关的场分布。分析推导了叠栅干涉测角的基本原理,然后介绍相应的(m,-m)级与(m,0)级干涉测角方案设计。具体而言,二者均类似地根据条纹偏转及频率变化分别以离轴与同轴的方式监测倾斜及面内偏转角度。设计相应的组合光栅标记进行实验验证。实验结果及分析表明...
Keyword测量 干涉测量 叠栅技术 微细加工 光刻
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7309
Collection微电子装备总体研究室(四室)
Corresponding Author佟军民
Affiliation1.许昌职业技术学院机电工程系
2.中国科学院光电技术研究所
Recommended Citation
GB/T 7714
佟军民,周绍林,赵立新,等. 接近式光刻对准中的叠栅干涉测角方法[J]. 中国激光,2014(12):162-168.
APA 佟军民,周绍林,赵立新,&胡松.(2014).接近式光刻对准中的叠栅干涉测角方法.中国激光(12),162-168.
MLA 佟军民,et al."接近式光刻对准中的叠栅干涉测角方法".中国激光 .12(2014):162-168.
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