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题名:
基于干涉的同轴检焦新方法
作者: 李光; 朱江平; 陈铭勇; 赵立新; 胡松; 段宣明
刊名: 中国激光
出版日期: 2013
期号: 12, 页码:186-190
关键词: 测量 ; 同轴检焦 ; 干涉 ; 傅里叶变换 ; 离焦量
通讯作者: 李光
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 针对现有离轴检焦技术在浸没式光刻方法中的局限性,提出了一种新的基于干涉的同轴检焦方法。测量光通过光刻物镜入射到硅片表面,在硅片表面反射后再次经过光刻物镜后,测量光和参考光产生干涉条纹,并被CCD接收,从而将硅片的离焦量信息调制在干涉条纹的相位信息中。通过对干涉条纹的相位提取,即可获得硅片的离焦量。仿真结果表明,该方法可以达到λ/25(λ=632.8nm)的检焦精度,并具有良好的抗噪性,满足浸没式光刻高精度、实时、非接触焦面测量的要求。
项目资助者: 国家自然科学基金(61274108)
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7275
Appears in Collections:微电子装备总体研究室(四室)_期刊论文

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2013-1014.pdf(2475KB)期刊论文作者接受稿开放获取View 联系获取全文

作者单位: 1.中国科学院理化技术研究所
2.中国科学院光电技术研究所
3.中国科学院大学

Recommended Citation:
李光,朱江平,陈铭勇,等. 基于干涉的同轴检焦新方法[J]. 中国激光,2013(12):186-190.
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