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题名:
光刻对准中掩模光栅标记成像标定方法
作者: 朱江平; 胡松; 于军胜; 唐燕; 周绍林; 何渝
刊名: 中国激光
出版日期: 2013
期号: 1, 页码:0108002-1-5
关键词: 光栅 ; 掩模光栅 ; 光刻对准 ; 角度标定 ; 叠栅条纹
通讯作者: 朱江平
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 双光栅叠栅条纹对准方法具有精度高、可靠性强等特点,适用于接近接触式光刻。为了实现高精度测量,实际应用中要求掩模光栅标记与硅片光栅标记高度平行。掩模光栅标记在CCD中成像通常存在一定的倾斜角。由此,在已提出的相位斜率倾斜条纹标定方法上,提出了一种改进方法。该方法充分利用掩模光栅45°和135°两个方向的相位信息标定CCD的成像位置,以实现掩模光栅条纹的标定。对比两种方法分析表明,改进后的方法具有倾角测量范围大、抗噪性强、精度高等优点,理论极限精度优于0.001°量级。
收录类别: Ei
项目资助者: 国家自然科学基金(60976077,61076099)资助课题
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7265
Appears in Collections:微电子装备总体研究室(四室)_期刊论文

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2013-1025.pdf(1063KB)期刊论文作者接受稿开放获取View 联系获取全文

作者单位: 1.中国科学院光电技术研究所
2.电子科技大学光电信息学院
3.中国科学院大学
4.华南理工大学电子与信息学院

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朱江平,胡松,于军胜,等. 光刻对准中掩模光栅标记成像标定方法[J]. 中国激光,2013(1):0108002-1-5.
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