IOE OpenIR  > 微电子装备总体研究室(四室)
双工件台光刻机中的焦面控制技术
李金龙; 胡松; 赵立新
Source Publication光学学报
Volume32Issue:12Pages:241-245
2012
Language中文
Indexed ByEi
Subtype期刊论文
Abstract面对可用焦深日益缩短的趋势,高精度的焦面控制技术显得尤为重要。针对双工件台光刻机中采用的焦面控制技术,介绍了基于偏振调制的光栅检焦技术及其测量原理,研究了双工件台光刻机中的调平调焦技术。基于平面拟合、最小二乘法及坐标变换公式推导了曝光狭缝内离焦量计算公式;研究了一种离焦量解耦算法,该算法将曝光狭缝内离焦量解耦为调平调焦机构三个压电陶瓷的独立控制量,并使狭缝曝光场中心在调平调焦运动过程中不发生平移。经仿真分析表明,该算法可用于调平调焦精度优于10nm的高精度调焦调平系统,能满足线宽小于100nm投影步进扫描光刻机的需要。
Keyword光学器件 光刻术 调平调焦 双工件台光刻机
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7255
Collection微电子装备总体研究室(四室)
Corresponding Author李金龙
Affiliation1.中国科学院光电技术研究所
2.中国科学院大学
Recommended Citation
GB/T 7714
李金龙,胡松,赵立新. 双工件台光刻机中的焦面控制技术[J]. 光学学报,2012,32(12):241-245.
APA 李金龙,胡松,&赵立新.(2012).双工件台光刻机中的焦面控制技术.光学学报,32(12),241-245.
MLA 李金龙,et al."双工件台光刻机中的焦面控制技术".光学学报 32.12(2012):241-245.
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