IOE OpenIR  > 微电子装备总体研究室(四室)
基于等效叠栅的反射式光刻对准模型研究
朱江平; 胡松; 于军胜; 唐燕; 周绍林; 刘旗; 何渝
Source Publication中国激光
Volume39Issue:9Pages:168-172
2012
Language中文
Indexed ByEi
Subtype期刊论文
Abstract针对接近接触式光刻技术的特点,提出了一种实用的反射式光刻对准方案。方案采用差动叠栅条纹对准技术,以叠栅条纹相位作为对准信号的载体。在掩模和硅片上分别设计两组位置相反、周期接近的光栅对准标记。电荷耦合器件(CCD)成像系统接收叠栅条纹图像,采用傅里叶变换提取叠栅条纹相位,得到掩模与硅片的相对位置关系。设计的标记可同时探测横纵方向的对准偏差。给出了合理的光路设计方案,详细分析了整个系统对准的内在机制,建立了可行的数学模型。研究表明,当对准偏差小于1pixel时,最大误差低于0.002pixel。与透射式光路对比,该方案更具有实用性,满足实际对准的要求。
Keyword光栅 光刻对准 反射式光路 叠栅条纹 光栅标记
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7253
Collection微电子装备总体研究室(四室)
Corresponding Author朱江平
Affiliation1.中国科学院光电技术研究所
2.电子科技大学光电信息学院
3.中国科学院研究生院
4.华南理工大学电子与信息学院
Recommended Citation
GB/T 7714
朱江平,胡松,于军胜,等. 基于等效叠栅的反射式光刻对准模型研究[J]. 中国激光,2012,39(9):168-172.
APA 朱江平.,胡松.,于军胜.,唐燕.,周绍林.,...&何渝.(2012).基于等效叠栅的反射式光刻对准模型研究.中国激光,39(9),168-172.
MLA 朱江平,et al."基于等效叠栅的反射式光刻对准模型研究".中国激光 39.9(2012):168-172.
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