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题名:
基于等效叠栅的反射式光刻对准模型研究
作者: 朱江平; 胡松; 于军胜; 唐燕; 周绍林; 刘旗; 何渝
刊名: 中国激光
出版日期: 2012
卷号: 39, 期号:9, 页码:168-172
关键词: 光栅 ; 光刻对准 ; 反射式光路 ; 叠栅条纹 ; 光栅标记
通讯作者: 朱江平
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 针对接近接触式光刻技术的特点,提出了一种实用的反射式光刻对准方案。方案采用差动叠栅条纹对准技术,以叠栅条纹相位作为对准信号的载体。在掩模和硅片上分别设计两组位置相反、周期接近的光栅对准标记。电荷耦合器件(CCD)成像系统接收叠栅条纹图像,采用傅里叶变换提取叠栅条纹相位,得到掩模与硅片的相对位置关系。设计的标记可同时探测横纵方向的对准偏差。给出了合理的光路设计方案,详细分析了整个系统对准的内在机制,建立了可行的数学模型。研究表明,当对准偏差小于1pixel时,最大误差低于0.002pixel。与透射式光路对比,该方案更具有实用性,满足实际对准的要求。
收录类别: Ei
项目资助者: 国家自然科学基金(60976077,61076099)资助课题
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7253
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2012-1111.pdf(2832KB)期刊论文作者接受稿开放获取View 联系获取全文

作者单位: 1.中国科学院光电技术研究所
2.电子科技大学光电信息学院
3.中国科学院研究生院
4.华南理工大学电子与信息学院

Recommended Citation:
朱江平,胡松,于军胜,等. 基于等效叠栅的反射式光刻对准模型研究[J]. 中国激光,2012,39(9):168-172.
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