IOE OpenIR  > 微电子装备总体研究室(四室)
叠栅条纹相位分布对对准精度的影响分析
朱江平; 胡松; 于军胜
Source Publication光学学报
Volume32Issue:9Pages:116-123
2012
Language中文
Indexed ByEi
Subtype期刊论文
Abstract光刻对准中,一般将硅片和掩模对准标记制作成周期接近的光栅,通过光栅标记叠加形成的叠栅条纹的相位信息,探测掩模和硅片的相对位置关系。在实际的应用中,叠栅条纹的方向不仅与对准标记的几何位置有关,而且还与CCD的位置有关。为了将叠栅条纹的光刻对准方法推向实际应用,从矩形光栅到叠栅条纹,分析了一般光栅的相位分布规律。根据叠栅条纹相位特性分析了掩模、基片和CCD的几何位置对对准精度的影响;建立了实际对准偏差与理论值的数学关系模型。研究表明,没有角位移的情况下,当位移值小于0.4pixel时,理论上最大对准误差低于0.002pixel。
Keyword测量 光刻对准 角位移 叠栅条纹 相位分析
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7252
Collection微电子装备总体研究室(四室)
Corresponding Author朱江平
Affiliation1.中国科学院光电技术研究所
2.电子科技大学光电信息学院
3.中国科学院研究生院
Recommended Citation
GB/T 7714
朱江平,胡松,于军胜. 叠栅条纹相位分布对对准精度的影响分析[J]. 光学学报,2012,32(9):116-123.
APA 朱江平,胡松,&于军胜.(2012).叠栅条纹相位分布对对准精度的影响分析.光学学报,32(9),116-123.
MLA 朱江平,et al."叠栅条纹相位分布对对准精度的影响分析".光学学报 32.9(2012):116-123.
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