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题名:
叠栅条纹相位分布对对准精度的影响分析
作者: 朱江平; 胡松; 于军胜
刊名: 光学学报
出版日期: 2012
卷号: 32, 期号:9, 页码:116-123
关键词: 测量 ; 光刻对准 ; 角位移 ; 叠栅条纹 ; 相位分析
通讯作者: 朱江平
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 光刻对准中,一般将硅片和掩模对准标记制作成周期接近的光栅,通过光栅标记叠加形成的叠栅条纹的相位信息,探测掩模和硅片的相对位置关系。在实际的应用中,叠栅条纹的方向不仅与对准标记的几何位置有关,而且还与CCD的位置有关。为了将叠栅条纹的光刻对准方法推向实际应用,从矩形光栅到叠栅条纹,分析了一般光栅的相位分布规律。根据叠栅条纹相位特性分析了掩模、基片和CCD的几何位置对对准精度的影响;建立了实际对准偏差与理论值的数学关系模型。研究表明,没有角位移的情况下,当位移值小于0.4pixel时,理论上最大对准误差低于0.002pixel。
收录类别: Ei
项目资助者: 国家自然科学基金(60976077,61076099)资助课题
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7252
Appears in Collections:微电子装备总体研究室(四室)_期刊论文

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2012-1110.pdf(12243KB)期刊论文作者接受稿开放获取View 联系获取全文

作者单位: 1.中国科学院光电技术研究所
2.电子科技大学光电信息学院
3.中国科学院研究生院

Recommended Citation:
朱江平,胡松,于军胜. 叠栅条纹相位分布对对准精度的影响分析[J]. 光学学报,2012,32(9):116-123.
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