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基于叠栅条纹的光刻对准理论分析及标定方法
作者: 朱江平; 胡松; 于军胜; 唐燕; 周绍林
刊名: 光学学报
出版日期: 2012
卷号: 32, 期号:6, 页码:34-40
关键词: 傅里叶光学 ; 光刻对准 ; 角位移 ; 叠栅条纹 ; 相位斜率 ; 线光栅标记
通讯作者: 朱江平
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 在线光栅用于纳米光刻对准理论的基础上,为实现光栅方向的标定和掩模硅片对准,提出一种利用相位斜率消除角位移的新方法,并给出线光栅标记及其对准原理。在对准前,掩模对准标记和硅片对准标记存在角位移,重点讨论了此种情况下叠栅条纹的特性以及与光栅物理参数的关系,并给出了相应的计算公式。基于傅里叶频域分析法,对叠栅条纹频率成分与条纹的关系做了简要分析。利用提取叠栅条纹行列方向的一维相位,通过数据拟合,得出了相位斜率与角位移的内在关系,实现了条纹方向的标定。模拟实验结果表明,该方法简单可靠,可分辨的最小角位移低于0.02°。
收录类别: Ei
项目资助者: 国家科学自然基金(61076099) ; 国家863计划(2009AA03Z341)资助课题
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7251
Appears in Collections:微电子装备总体研究室(四室)_期刊论文

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2012-1075.pdf(5287KB)期刊论文作者接受稿开放获取View 联系获取全文

作者单位: 1.中国科学院光电技术研究所
2.电子科技大学光电信息学院
3.中国科学院研究生院

Recommended Citation:
朱江平,胡松,于军胜,等. 基于叠栅条纹的光刻对准理论分析及标定方法[J]. 光学学报,2012,32(6):34-40.
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