IOE OpenIR  > 微电子装备总体研究室(四室)
基于叠栅条纹的光刻对准理论分析及标定方法
朱江平; 胡松; 于军胜; 唐燕; 周绍林
Source Publication光学学报
Volume32Issue:6Pages:34-40
2012
Language中文
Indexed ByEi
Subtype期刊论文
Abstract在线光栅用于纳米光刻对准理论的基础上,为实现光栅方向的标定和掩模硅片对准,提出一种利用相位斜率消除角位移的新方法,并给出线光栅标记及其对准原理。在对准前,掩模对准标记和硅片对准标记存在角位移,重点讨论了此种情况下叠栅条纹的特性以及与光栅物理参数的关系,并给出了相应的计算公式。基于傅里叶频域分析法,对叠栅条纹频率成分与条纹的关系做了简要分析。利用提取叠栅条纹行列方向的一维相位,通过数据拟合,得出了相位斜率与角位移的内在关系,实现了条纹方向的标定。模拟实验结果表明,该方法简单可靠,可分辨的最小角位移低于0.02°。
Keyword傅里叶光学 光刻对准 角位移 叠栅条纹 相位斜率 线光栅标记
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7251
Collection微电子装备总体研究室(四室)
Corresponding Author朱江平
Affiliation1.中国科学院光电技术研究所
2.电子科技大学光电信息学院
3.中国科学院研究生院
Recommended Citation
GB/T 7714
朱江平,胡松,于军胜,等. 基于叠栅条纹的光刻对准理论分析及标定方法[J]. 光学学报,2012,32(6):34-40.
APA 朱江平,胡松,于军胜,唐燕,&周绍林.(2012).基于叠栅条纹的光刻对准理论分析及标定方法.光学学报,32(6),34-40.
MLA 朱江平,et al."基于叠栅条纹的光刻对准理论分析及标定方法".光学学报 32.6(2012):34-40.
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