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题名:
一种适用于数字微镜无掩模光刻的图形拼接方法
作者: 朱江平; 胡松; 于军胜; 陈铭勇; 何渝; 刘旗
刊名: 中国激光
出版日期: 2012
卷号: 39, 期号:6, 页码:229-233
关键词: 图像处理 ; 图形曝光 ; 图形拼接 ; 无掩模光刻 ; 数字微镜 ; 灰度调制
通讯作者: 朱江平
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 针对数字投影光刻技术大面积图形曝光的需求,提出了一种基于灰度模板调制的图形拼接方法,包括图形分割、模板设计、子图形灰度调制、子图形曝光4个步骤。图形曝光前,需要将曝光图形分割为多帧大小为1024pixel×768pixel的多个子图形,然后每个子图形与对应模板相乘,实现曝光子图形的预处理。基于数字微镜(DMD)对灰度图形的调制原理,设计了可行的边界灰度调制模板。给出了图形分割的基本方法以及模板设计的原则。计算机仿真实验展示了图形拼接的过程。实验结果表明,该方法能较好地解决大面积图形曝光存在的拼接问题,改善了图形刻蚀的质量。
收录类别: Ei
项目资助者: 国家自然科学基金(60976077,61076099,61177032)资助课题
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7250
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2012-1072.pdf(3137KB)期刊论文作者接受稿开放获取View 联系获取全文

作者单位: 1.中国科学院光电技术研究所
2.电子科技大学光电信息学院
3.中国科学院研究生院

Recommended Citation:
朱江平,胡松,于军胜,等. 一种适用于数字微镜无掩模光刻的图形拼接方法[J]. 中国激光,2012,39(6):229-233.
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