IOE OpenIR  > 微电子装备总体研究室(四室)
一种适用于数字微镜无掩模光刻的图形拼接方法
朱江平; 胡松; 于军胜; 陈铭勇; 何渝; 刘旗
Source Publication中国激光
Volume39Issue:6Pages:229-233
2012
Language中文
Indexed ByEi
Subtype期刊论文
Abstract针对数字投影光刻技术大面积图形曝光的需求,提出了一种基于灰度模板调制的图形拼接方法,包括图形分割、模板设计、子图形灰度调制、子图形曝光4个步骤。图形曝光前,需要将曝光图形分割为多帧大小为1024pixel×768pixel的多个子图形,然后每个子图形与对应模板相乘,实现曝光子图形的预处理。基于数字微镜(DMD)对灰度图形的调制原理,设计了可行的边界灰度调制模板。给出了图形分割的基本方法以及模板设计的原则。计算机仿真实验展示了图形拼接的过程。实验结果表明,该方法能较好地解决大面积图形曝光存在的拼接问题,改善了图形刻蚀的质量。
Keyword图像处理 图形曝光 图形拼接 无掩模光刻 数字微镜 灰度调制
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7250
Collection微电子装备总体研究室(四室)
Corresponding Author朱江平
Affiliation1.中国科学院光电技术研究所
2.电子科技大学光电信息学院
3.中国科学院研究生院
Recommended Citation
GB/T 7714
朱江平,胡松,于军胜,等. 一种适用于数字微镜无掩模光刻的图形拼接方法[J]. 中国激光,2012,39(6):229-233.
APA 朱江平,胡松,于军胜,陈铭勇,何渝,&刘旗.(2012).一种适用于数字微镜无掩模光刻的图形拼接方法.中国激光,39(6),229-233.
MLA 朱江平,et al."一种适用于数字微镜无掩模光刻的图形拼接方法".中国激光 39.6(2012):229-233.
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