中国科学院光电技术研究所机构知识库
Advanced  
IOE OpenIR  > 微电子装备总体研究室(四室)  > 期刊论文
题名:
基于光闸叠栅条纹的纳米检焦方法
作者: 严伟; 李艳丽; 陈铭勇; 王建
刊名: 光学学报
出版日期: 2011
卷号: 31, 期号:8, 页码:28-32
通讯作者: 严伟
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 针对投影光刻机短波长、大数值孔径、短焦深的特点,讨论了一种基于光闸叠栅条纹的纳米检焦方法。该方法采用三角测量的基本原理,利用双光栅光闸叠栅条纹的光强调制机理,并结合像横向剪切器和光弹调制的光学特性,建立了单个光栅周期内焦面位移量和输出光能量线性关系。其具有非接触、强实时性和高稳健性的特点,经理论分析和模拟测试,达到纳米量级的检测精度,可以满足投影光刻高精度、实时、非接触焦面测量的要求。
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7246
Appears in Collections:微电子装备总体研究室(四室)_期刊论文

Files in This Item:
File Name/ File Size Content Type Version Access License
2011-04-003.pdf(986KB)期刊论文作者接受稿开放获取View 联系获取全文

作者单位: 中国科学院光电技术研究所

Recommended Citation:
严伟,李艳丽,陈铭勇,等. 基于光闸叠栅条纹的纳米检焦方法[J]. 光学学报,2011,31(8):28-32.
Service
Recommend this item
Sava as my favorate item
Show this item's statistics
Export Endnote File
Google Scholar
Similar articles in Google Scholar
[严伟]'s Articles
[李艳丽]'s Articles
[陈铭勇]'s Articles
CSDL cross search
Similar articles in CSDL Cross Search
[严伟]‘s Articles
[李艳丽]‘s Articles
[陈铭勇]‘s Articles
Related Copyright Policies
Null
Social Bookmarking
Add to CiteULike Add to Connotea Add to Del.icio.us Add to Digg Add to Reddit
文件名: 2011-04-003.pdf
格式: Adobe PDF
所有评论 (0)
暂无评论
 
评注功能仅针对注册用户开放,请您登录
您对该条目有什么异议,请填写以下表单,管理员会尽快联系您。
内 容:
Email:  *
单位:
验证码:   刷新
您在IR的使用过程中有什么好的想法或者建议可以反馈给我们。
标 题:
 *
内 容:
Email:  *
验证码:   刷新

Items in IR are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

 

 

Valid XHTML 1.0!
Copyright © 2007-2016  中国科学院光电技术研究所 - Feedback
Powered by CSpace