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一种评价CCOS抛光工艺误差抑制能力的方法
王佳; 范斌; 万勇建; 施春燕; 卓彬
Source Publication光子学报
Volume43Issue:7Pages:190-193
2014
Language中文
Indexed ByEi
Subtype期刊论文
Abstract结合光学加工中材料去除的卷积模型和功率谱密度函数,建立了描述CCOS抛光工艺抑制不同频段误差能力的数学模型——平滑谱函数.利用Rigid Conformal磨盘抛光620mm口径微晶平面玻璃,通过计算平滑谱函数曲线,将CCOS抛光工艺抑制不同频段误差的能力表示为归一化且无量纲的频谱曲线.计算结果表明平滑谱函数曲线能以数值大小评价CCOS抛光工艺对不同频率误差的抑制能力.
Keyword光学加工 平滑谱函数 功率谱密度 中高频误差 卷积模型
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7025
Collection先光中心
Corresponding Author王佳
Affiliation1.中国科学院光电技术研究所
2.中国科学院大学
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GB/T 7714
王佳,范斌,万勇建,等. 一种评价CCOS抛光工艺误差抑制能力的方法[J]. 光子学报,2014,43(7):190-193.
APA 王佳,范斌,万勇建,施春燕,&卓彬.(2014).一种评价CCOS抛光工艺误差抑制能力的方法.光子学报,43(7),190-193.
MLA 王佳,et al."一种评价CCOS抛光工艺误差抑制能力的方法".光子学报 43.7(2014):190-193.
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