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一种评价CCOS抛光工艺误差抑制能力的方法
作者: 王佳; 范斌; 万勇建; 施春燕; 卓彬
刊名: 光子学报
出版日期: 2014
卷号: 43, 期号:7, 页码:190-193
关键词: 光学加工 ; 平滑谱函数 ; 功率谱密度 ; 中高频误差 ; 卷积模型
通讯作者: 王佳
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 结合光学加工中材料去除的卷积模型和功率谱密度函数,建立了描述CCOS抛光工艺抑制不同频段误差能力的数学模型——平滑谱函数.利用Rigid Conformal磨盘抛光620mm口径微晶平面玻璃,通过计算平滑谱函数曲线,将CCOS抛光工艺抑制不同频段误差的能力表示为归一化且无量纲的频谱曲线.计算结果表明平滑谱函数曲线能以数值大小评价CCOS抛光工艺对不同频率误差的抑制能力.
收录类别: Ei
项目资助者: 国家自然科学基金(61378054)资助
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7025
Appears in Collections:先光中心_期刊论文

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2014-1068.pdf(2082KB)期刊论文作者接受稿开放获取View 联系获取全文

作者单位: 1.中国科学院光电技术研究所
2.中国科学院大学

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王佳,范斌,万勇建,等. 一种评价CCOS抛光工艺误差抑制能力的方法[J]. 光子学报,2014,43(7):190-193.
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