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题名:
双轴式研磨抛光中抛光盘相对位置对去除量的影响研究
作者: 张杨; 李秀龙; 徐清兰; 张蓉竹
刊名: 光学技术
出版日期: 2013
期号: 5, 页码:408-412
关键词: 平面研磨 ; 去除函数 ; 抛光盘摆幅 ; 偏心距 ; 去除量
通讯作者: 张杨
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 为了了解在抛光过程中抛光盘位置对光学元件面形的影响,对一种双轴式平面研磨抛光运动过程进行了分析。从Preston方程出发,推导了去除函数的表达式,研究了抛光盘的摆幅及偏心距离对元件的去除量分布的影响。通过定量计算得知,在加工转速不变的情况下,增大抛光盘的摆幅,元件不同圆周上的去除量也不同。增大偏心距,元件的去除量增大,不论抛光盘相对元件的位置如何改变,回转中心的去除量总是最大。
项目资助者: 国家重大专项应用基础项目(GFZX020010803.22)
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7015
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2013-1108.pdf(326KB)期刊论文作者接受稿开放获取View 联系获取全文

作者单位: 1.四川大学电子信息学院
2.中国科学院光电技术研究所

Recommended Citation:
张杨,李秀龙,徐清兰,等. 双轴式研磨抛光中抛光盘相对位置对去除量的影响研究[J]. 光学技术,2013(5):408-412.
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