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题名:
射流抛光误差分析与材料去除稳定性研究
作者: 施春燕; 袁家虎; 伍凡; 万勇建
刊名: 光学学报
出版日期: 2011
卷号: 31, 期号:1, 页码:170-174
通讯作者: 施春燕
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 研究了射流抛光材料去除面形不呈理想的对称形和重复抛光材料去除量的波动不稳性,分析认为射流抛光过程稳定性和误差因素会影响材料去除的不稳定性。分析了射流系统的误差影响因素,其主要由压力波动、磨粒沉降作用和流体的紊动作用等部分组成,并研究了各误差影响因素的产生机理和对材料去除的影响。通过仿真和实验分析,得到压力波动、磨粒沉降作用和流体紊动作用的波动范围,构建了基于各误差的材料去除稳定性的完整表达式,理论计算误差范围与实验误差范围吻合。
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/6992
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2011-13-014.pdf(887KB)期刊论文作者接受稿开放获取View 联系获取全文

作者单位: 中国科学院光电技术研究所

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施春燕,袁家虎,伍凡,等. 射流抛光误差分析与材料去除稳定性研究[J]. 光学学报,2011,31(1):170-174.
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