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题名:
基于MHD的磁射流抛光中流场的分析与模拟
作者: 施春燕; 伍凡; 袁家虎; 万勇建
刊名: 光学技术
出版日期: 2009
卷号: 35, 期号:5, 页码:736-738+741
通讯作者: 施春燕
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 从理论上分析了磁射流抛光中的磁场与流场的相互作用,构建了磁射流抛光的冲击射流模型,基于磁流体动力学对磁射流抛光过程的紊动冲击射流进行数值模拟,得到了磁射流抛光过程的连续流场和射流在工件壁面上的压力、速度、紊
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/6960
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2009-139.pdf(518KB)期刊论文作者接受稿开放获取View 联系获取全文

作者单位: 中国科学院光电技术研究所

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施春燕,伍凡,袁家虎,等. 基于MHD的磁射流抛光中流场的分析与模拟[J]. 光学技术,2009,35(5):736-738+741.
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