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题名:
RB-SiC表面改性Si涂层的制备与性能
作者: 苑永涛; 刘红; 邵传兵; 陈益超; 方敬忠
刊名: 强激光与粒子束
出版日期: 2011
卷号: 23, 期号:5, 页码:1281-1284
通讯作者: 苑永涛
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 为了获得高质量光学表面的碳化硅反射镜,利用射频磁控溅射方法,在直径70 mm的RB-SiC基片上沉积了厚约100μm的Si改性涂层,对改性层进行超光滑加工,并对改性层的表面形貌及性能进行了测试。ZYGO表面粗糙度仪测试结果表明,抛光后Si改性涂层表面粗糙度均方根值达到了0.496 nm;X射线衍射仪测试显示,制备Si改性涂层为多晶结构;使用拉力机做附着力测试,结果表明膜基附着力大于10.7 MPa。证明采用磁控溅射技术制备的Si改性涂层均匀、致密、附着力好,能够满足RB-SiC材料表面改性要求。
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/6926
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2011-12-001.pdf(1246KB)期刊论文作者接受稿开放获取View 联系获取全文

作者单位: 中国科学院光电技术研究所

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苑永涛,刘红,邵传兵,等. RB-SiC表面改性Si涂层的制备与性能[J]. 强激光与粒子束,2011,23(5):1281-1284.
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