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题名:
基于二维Ronchi光栅的纳米光刻对准技术研究
作者: 司新春,佟军民,唐燕等
刊名: 中国激光
出版日期: 2015
卷号: 42, 期号:9, 页码:301-307
关键词: 傅里叶光学 ; 二维光栅 ; 光刻对准 ; 叠栅条纹 ; 频谱
通讯作者: 司新春
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 提出了一种基于二维光栅叠栅效应的纳米光刻对准方法,用于接近式光刻实现二维同步对准。该方法采用两组周期接近的二维光栅重叠产生一组周期分布的叠栅条纹,条纹的周期相对于两光栅周期被大幅度放大,将光栅间的位移反应在条纹的相位信息中。利用二维光栅在傅里叶频谱中x、y 向相互独立的频谱分布,通过傅里叶变换对正交叠栅条纹横纵两个方向上的相位信息进行解析,可实现高精度二维同步对准。建立了双二维Ronchi光栅对准复振幅分布物理模型,推导了基片、掩模相对位移量与叠栅条纹相位之间的关系。通过计算机模拟对该对准方法进行了仿真分析,考虑噪声情况下,对准精度可以达到2 nm;通过实验系统对该对准方法进行测试,实验结果对准精度可以达到22 nm。
项目资助者: 国家自然科学基金(61204114、 61274108、 61376110)
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/6916
Appears in Collections:微细加工光学技术国家重点实验室(开放室)_期刊论文

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2015-1101.pdf(3791KB)期刊论文作者接受稿开放获取View 联系获取全文

作者单位: 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室

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司新春,佟军民,唐燕等. 基于二维Ronchi光栅的纳米光刻对准技术研究[J]. 中国激光,2015,42(9):301-307.
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