IOE OpenIR  > 微细加工光学技术国家重点实验室(开放室)
用于纳米光刻的超分辨缩小成像平板超透镜研究
李恒一; 王长涛; 罗先刚
Source Publication光电工程
Volume38Issue:5Pages:35-39+45
2011
Language中文
Subtype期刊论文
Abstract本文提出和研究了利用超分辨缩小成像平板超透镜,在i线光源波长下实现纳米尺度光刻方法。为了在超分辨透镜像面位置获得高质量的光刻图形,采用超分辨透镜-光刻胶-反射银膜的结构方式,解决由于超透镜磁场偏振传输模式带来的成像光场畸变问题,大大提高了成像质量和光场对比度。采用掩模图形结构预补偿的方法,消除超分辨透镜的倍率畸变像差影响。基于有限元电磁计算方法,数值模拟结果验证了该方法在i线光源波长下实现纳米尺度缩小成像光刻的可能性。在i线(365nm)光源波长下,得到约35nm线宽的高对比成像光场模拟结果,并分析了结构参...
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/6777
Collection微细加工光学技术国家重点实验室(开放室)
Corresponding Author李恒一
Affiliation中国科学院光电技术研究所
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GB/T 7714
李恒一,王长涛,罗先刚. 用于纳米光刻的超分辨缩小成像平板超透镜研究[J]. 光电工程,2011,38(5):35-39+45.
APA 李恒一,王长涛,&罗先刚.(2011).用于纳米光刻的超分辨缩小成像平板超透镜研究.光电工程,38(5),35-39+45.
MLA 李恒一,et al."用于纳米光刻的超分辨缩小成像平板超透镜研究".光电工程 38.5(2011):35-39+45.
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