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题名:
激光干涉光刻法制作100nm掩模
作者: 陈欣; 赵青; 方亮; 王长涛; 罗先刚
刊名: 强激光与粒子束
出版日期: 2011
卷号: 23, 期号:3, 页码:806-810
通讯作者: 陈欣
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 介绍了一种利用激光干涉光刻技术得到特征图形,并通过离子束刻蚀将图形转移到铬层上,从而获得掩模的方法。针对掩模透光率以及对干涉图形对比度可能产生影响的两个参数分别进行了数值仿真,从而证明此方法的可行性和参数的优化选择。自搭干涉光刻实验系统,用257 nm的激光光源实现光刻,得到特征尺寸为100 nm的图形,再经过离子束刻蚀,最终得到周期200 nm、线宽100 nm的掩模。
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/6774
Appears in Collections:微细加工光学技术国家重点实验室(开放室)_期刊论文

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2011-10-023.pdf(1220KB)期刊论文作者接受稿开放获取View 联系获取全文

作者单位: 中国科学院光电技术研究所

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陈欣,赵青,方亮,等. 激光干涉光刻法制作100nm掩模[J]. 强激光与粒子束,2011,23(3):806-810.
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