IOE OpenIR  > 微细加工光学技术国家重点实验室(开放室)
光纤消逝场传感器传感结构的分析与应用
罗吉; 庄须叶; 倪祖高; 姚军
Source Publication微纳电子技术
Volume48Issue:6Pages:376-383+390
2011
Language中文
Subtype期刊论文
Abstract对光纤消逝场理论进行了详细分析,阐述了影响光纤消逝场传感器灵敏度的一些关键因素,并对几种常见的光纤消逝场传感光纤的优缺点进行了比较,主要包括圆柱形、D形、U形、锥形以及光子晶体光纤等结构的传感光纤。通过分析各种传感结构的光纤消逝场传感器的应用实例,归纳总结了提高光纤消逝场传感器传感灵敏度的一般方法,包括在传感光纤表面镀薄敏感膜或者金属膜、优化传感光纤结构、进行荧光标记以及用纳米粒子修饰等一系列措施。
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/6770
Collection微细加工光学技术国家重点实验室(开放室)
Corresponding Author罗吉
Affiliation中国科学院光电技术研究所
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GB/T 7714
罗吉,庄须叶,倪祖高,等. 光纤消逝场传感器传感结构的分析与应用[J]. 微纳电子技术,2011,48(6):376-383+390.
APA 罗吉,庄须叶,倪祖高,&姚军.(2011).光纤消逝场传感器传感结构的分析与应用.微纳电子技术,48(6),376-383+390.
MLA 罗吉,et al."光纤消逝场传感器传感结构的分析与应用".微纳电子技术 48.6(2011):376-383+390.
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