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题名:
离子束辅助沉积大口径光学薄膜
作者: 艾万君; 熊胜明
刊名: 红外与激光工程
出版日期: 2015
卷号: 43, 期号:S1, 页码:183-188
关键词: 离子辅助沉积 ; 高真空镀膜设备 ; 大口径光学薄膜 ; 光学特性 ; 膜厚均匀性
通讯作者: 艾万君
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 利用国内最大箱式高真空镀膜设备ZZS3600,开展了双离子束辅助反应蒸发技术及光学薄膜厚度均匀性研究。借助MarkⅡ离子源辅助反应蒸发技术,对Ta_2O_5、SiO_2常见的高、低折射率光学薄膜进行了制备与特性分析。结果表明:在蒸发源与沉积基底距离较大的镀膜环境下,具有低能、高束流密度离子源有利于薄膜结构的致密化,薄膜性能的改善。根据大口径光学元件尺寸,结合真空室空间几何配置,开展了行星及单轴转动方式下镀膜膜厚均匀性的研究。行星转动方式下,分析了直径140 cm行星盘工件膜厚均匀性,无修正挡板运行时膜厚不均匀性优于0.4%。单轴转动方式下,分析了200 cm光学元件膜厚均匀性,并通过设计修正挡...
收录类别: Ei
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/6647
Appears in Collections:薄膜光学技术研究室(十一室)_期刊论文

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2015-1075.pdf(1479KB)期刊论文作者接受稿开放获取View 联系获取全文

作者单位: 中国科学院光电技术研究所

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艾万君,熊胜明. 离子束辅助沉积大口径光学薄膜[J]. 红外与激光工程,2015,43(S1):183-188.
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