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题名:
深紫外宽入射角范围增透膜设计与制备
作者: 蒲玲琳; 林大伟; 李斌成
刊名: 光电工程
出版日期: 2012
卷号: 39, 期号:5, 页码:13-17
关键词: 深紫外 ; 增透膜 ; 宽入射角范围 ; 剩余反射率
通讯作者: 蒲玲琳
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 在大数值孔径深紫外光学系统中,需要使用宽入射角范围的增透膜光学元件。选择LaF3和MgF2两种镀膜材料,设计了适用于深紫外宽入射角范围的三层、五层和七层三种增透膜系。实验使用热舟蒸发在熔融石英基底上镀制了设计的薄膜,并用紫外分光光度计对其光谱性能进行了测试,得到了在宽入射角范围内具有较高透过率的深紫外增透膜元件。双面镀五层增透膜系的熔石英基片在0°?55°入射角内的剩余反射率小于2.5%,在0°?20°入射角内的透过率大于98%。
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/6602
Appears in Collections:薄膜光学技术研究室(十一室)_期刊论文

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2012-1068.pdf(625KB)期刊论文作者接受稿开放获取View 联系获取全文

作者单位: 1.中国科学院光电技术研究所
2.中国科学院研究生院

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蒲玲琳,林大伟,李斌成. 深紫外宽入射角范围增透膜设计与制备[J]. 光电工程,2012,39(5):13-17.
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