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题名:
不同沉积角度对氟化镱薄膜性质的影响
作者: 林大伟; 黄伟; 熊胜明; 孔明东
刊名: 光电工程
出版日期: 2011
卷号: 38, 期号:1, 页码:103-106
通讯作者: 林大伟
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 采用特定的工艺同一罩镀制三种不同基片倾斜角度下的氟化镱(YbF3)薄膜样品,分别采用原子力显微镜、红外分光光度计测量了单层膜的粗糙度、透射率,根据透射率值采用包络法计算了薄膜的折射率,并由堆积密度的计算公式计算了薄膜的堆积密度。测量及计算结果表明:随着基片倾斜角度即相应薄膜沉积角度的增加,薄膜的粗糙度变差,折射率及堆积密度变小。
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/6595
Appears in Collections:薄膜光学技术研究室(十一室)_期刊论文

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作者单位: 中国科学院光电技术研究所

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林大伟,黄伟,熊胜明,等. 不同沉积角度对氟化镱薄膜性质的影响[J]. 光电工程,2011,38(1):103-106.
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