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题名:
离子注入硅片快速退火后的红外椭偏光谱研究
作者: 刘显明; 李斌成; 高卫东; 韩艳玲
刊名: 光电工程
出版日期: 2010
卷号: 37, 期号:5, 页码:80-84+90
通讯作者: 刘显明
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 本文分析了微透镜列阵衍射效应的影响因素,推导出了微透镜焦平面上光强分布的解析表达式,对菲涅尔数评价衍射效应的物理含义给予了合理的解释。并利用ZEMAX软件对微透镜列阵进行仿真,基于惠更斯子波直接积分的算法计算得到了微透镜列阵焦平面上的光场强度分布。通过比较不同条件下所得到的计算结果,验证了以菲涅尔数作为微透镜列阵衍射效应评价依据的的合理性,同时验证了以菲涅尔数判断焦斑间串扰的可行性。
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/6588
Appears in Collections:薄膜光学技术研究室(十一室)_期刊论文

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2010-215.pdf(950KB)期刊论文作者接受稿开放获取View 联系获取全文

作者单位: 中国科学院光电技术研究所

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刘显明,李斌成,高卫东,等. 离子注入硅片快速退火后的红外椭偏光谱研究[J]. 光电工程,2010,37(5):80-84+90.
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