中国科学院光电技术研究所机构知识库
Advanced  
IOE OpenIR  > 薄膜光学技术研究室(十一室)  > 期刊论文
题名:
光腔衰荡高反射率测量技术综述
作者: 李斌成; 龚元
刊名: 光电工程
出版日期: 2010
卷号: 37, 期号:7, 页码:102-106
通讯作者: 李斌成
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 从莫尔条纹用于光刻对准的实际应用出发,从傅里叶光学的角度重点讨论了一般光栅及线光栅对莫尔条纹的调制规律,并对广泛应用的低频(1,-1)级莫尔条纹进行了仿真分析。最后通过仿真分析说明,在光刻对准中,对栅线重复频率相差很小的两光栅对准标记,将产生对位移具有高灵敏度特性的放大莫尔条纹,从而实现高精度光刻对准,并对采用该对准方法的光刻对准精度进行了简要分析。
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/6585
Appears in Collections:薄膜光学技术研究室(十一室)_期刊论文

Files in This Item:
File Name/ File Size Content Type Version Access License
2010-214.pdf(1896KB)期刊论文作者接受稿开放获取View 联系获取全文

作者单位: 中国科学院光电技术研究所

Recommended Citation:
李斌成,龚元. 光腔衰荡高反射率测量技术综述[J]. 光电工程,2010,37(7):102-106.
Service
Recommend this item
Sava as my favorate item
Show this item's statistics
Export Endnote File
Google Scholar
Similar articles in Google Scholar
[李斌成]'s Articles
[龚元]'s Articles
CSDL cross search
Similar articles in CSDL Cross Search
[李斌成]‘s Articles
[龚元]‘s Articles
Related Copyright Policies
Null
Social Bookmarking
Add to CiteULike Add to Connotea Add to Del.icio.us Add to Digg Add to Reddit
文件名: 2010-214.pdf
格式: Adobe PDF
所有评论 (0)
暂无评论
 
评注功能仅针对注册用户开放,请您登录
您对该条目有什么异议,请填写以下表单,管理员会尽快联系您。
内 容:
Email:  *
单位:
验证码:   刷新
您在IR的使用过程中有什么好的想法或者建议可以反馈给我们。
标 题:
 *
内 容:
Email:  *
验证码:   刷新

Items in IR are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

 

 

Valid XHTML 1.0!
Copyright © 2007-2016  中国科学院光电技术研究所 - Feedback
Powered by CSpace