中国科学院光电技术研究所机构知识库
Advanced  
IOE OpenIR  > 微电子装备总体研究室(四室微光学)  > 期刊论文
题名:
负性光刻胶刻蚀工艺研究
作者: 董小春 ; 杜春雷
刊名: 光子学报
出版日期: 2003
卷号: 32, 期号:12, 页码:1422-1425
通讯作者: 董小春
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/635
Appears in Collections:微电子装备总体研究室(四室微光学) _期刊论文

Files in This Item:
File Name/ File Size Content Type Version Access License
3040-2.pdf(101KB)----开放获取View 联系获取全文

Recommended Citation:
董小春,杜春雷. 负性光刻胶刻蚀工艺研究[J]. 光子学报,2003,32(12):1422-1425.
Service
Recommend this item
Sava as my favorate item
Show this item's statistics
Export Endnote File
Google Scholar
Similar articles in Google Scholar
[董小春]'s Articles
[杜春雷]'s Articles
CSDL cross search
Similar articles in CSDL Cross Search
[董小春]‘s Articles
[杜春雷]‘s Articles
Related Copyright Policies
Null
Social Bookmarking
Add to CiteULike Add to Connotea Add to Del.icio.us Add to Digg Add to Reddit
文件名: 3040-2.pdf
格式: Adobe PDF
此文件暂不支持浏览
所有评论 (0)
暂无评论
 
评注功能仅针对注册用户开放,请您登录
您对该条目有什么异议,请填写以下表单,管理员会尽快联系您。
内 容:
Email:  *
单位:
验证码:   刷新
您在IR的使用过程中有什么好的想法或者建议可以反馈给我们。
标 题:
 *
内 容:
Email:  *
验证码:   刷新

Items in IR are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

 

 

Valid XHTML 1.0!
Copyright © 2007-2016  中国科学院光电技术研究所 - Feedback
Powered by CSpace