IOE OpenIR  > 应用光学研究室(二室)
非理想照明光瞳对光刻成像质量的影响
陈安; 林妩媚; 江海波
Source Publication光电工程
Volume40Issue:2Pages:87-92
2013
Language中文
Subtype期刊论文
Abstract通过PROLITH光刻仿真软件研究了非理想照明光瞳对光刻成像质量的影响以及图形位置偏移量对光瞳偏心的敏感度随数值孔径NA和相干因子σ的变化规律。仿真结果表明:在无像差的理想光学系统中,光瞳偏心主要影响图形的位置偏移量,图形的位置偏移量与离焦量成线性关系,直线的斜率随着偏心量的增大而增大。光瞳偏心对H-Vbias和焦深(DOF)的影响较小。光瞳偏心和极不平衡性两者对图形位置偏移量的综合影响是这两者单独引起的图形位置偏移量的叠加。
Keyword光刻仿真 非理想照明 光瞳偏心 离轴照明
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/4245
Collection应用光学研究室(二室)
Corresponding Author陈安
Affiliation1.中国科学院光电技术研究所
2.中国科学院大学
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GB/T 7714
陈安,林妩媚,江海波. 非理想照明光瞳对光刻成像质量的影响[J]. 光电工程,2013,40(2):87-92.
APA 陈安,林妩媚,&江海波.(2013).非理想照明光瞳对光刻成像质量的影响.光电工程,40(2),87-92.
MLA 陈安,et al."非理想照明光瞳对光刻成像质量的影响".光电工程 40.2(2013):87-92.
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