IOE OpenIR  > 应用光学研究室(二室)
采用非均匀有理B样条曲面延展光学元件面形误差
李云; 邢廷文
Source Publication光学学报
Volume32Issue:7Pages:212-218
2012
Language中文
Indexed ByEi
Subtype期刊论文
Abstract在离子束抛光工艺中,为了提高驻留时间求解算法在工件边缘处的求解精度,通常需要对原始面形误差数据进行边缘虚拟延展。要求原始面形误差数据与虚拟延展面光滑拼接,并在延展区域具有可控的不确定性。非均匀有理B样条(NURBS)曲面常用在机械制造领域对复杂形状物体进行三维建模。引入非均匀有理B样条曲面并结合泽尼克(Zernike)多项式拟合对一典型的圆形光学元件面形误差自由曲面数据进行延展。通过对典型面形误差曲面延展前后的等效功率谱密度曲线分析可以看出,延展后在面形误差频率大于0.05mm-1时其面形误差改善量均大于70%;将该典型延展面应用于特定驻留时间求解算法中,使得预测加工精度的均方根值由1.18nm改善至0.19nm。这表明,采用非均匀有理B样条曲面延展光学元件面形误差能够获得光滑拼接的虚拟延展曲面,并能大大改善离子束抛光工艺中驻留时间算法的求解精度。
Keyword光学制造 面形误差延展 非均匀有理b样条 离子束抛光
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/4240
Collection应用光学研究室(二室)
Corresponding Author李云
Affiliation1.中国科学院光电技术研究所应用光学实验室,四川成都610209
2.中国科学院研究生院,北京100049
Recommended Citation
GB/T 7714
李云,邢廷文. 采用非均匀有理B样条曲面延展光学元件面形误差[J]. 光学学报,2012,32(7):212-218.
APA 李云,&邢廷文.(2012).采用非均匀有理B样条曲面延展光学元件面形误差.光学学报,32(7),212-218.
MLA 李云,et al."采用非均匀有理B样条曲面延展光学元件面形误差".光学学报 32.7(2012):212-218.
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