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题名:
大数值孔径下的偏振成像分析
作者: 刘勇; 邢廷文; 杨雄
刊名: 光电工程
出版日期: 2011
卷号: 38, 期号:12, 页码:35-40
通讯作者: 刘勇
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 光刻设备的分辨率越来越高, 以满足集成电路特征尺寸不断缩小的要求。根据瑞利判据, 可以通过缩小曝光波长和工艺因子、增大数值孔径来提升光学投影光刻的分辨率。随着数值孔径的增加, 光的偏振特性对成像的影响越来越大。通过分析偏振光的成像特性, 控制照明的偏振方向, 可以延伸光刻的分辨率。运用光的干涉原理分析了偏振光影响成像质量的原因, 结合阿贝成像原理与偏振的矢量特性对偏振光的成像进行了仿真, 比较了不同偏振照明下的成像对比度及焦深。结果表明, 对图形选取相应的偏振照明, 可以改善成像质量。
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/4217
Appears in Collections:应用光学研究室(二室)_期刊论文

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2011-02-008.pdf(794KB)期刊论文作者接受稿开放获取View 联系获取全文

作者单位: 中国科学院光电技术研究所

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刘勇,邢廷文,杨雄. 大数值孔径下的偏振成像分析[J]. 光电工程,2011,38(12):35-40.
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