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题名:
极紫外投影光刻物镜设计
作者: 杨雄
刊名: 光学学报
出版日期: 2009
卷号: 29, 期号:9, 页码:2520-2523
通讯作者: 杨雄
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 极紫外投影光刻用14 nm波长的电磁辐射,可以在实现高分辨率的同时保持相对较大的焦深,有希望成为制造超大规模集成电路的下一代光刻技术.极紫外投影光刻工作于步进扫描方式,采用全反射、无遮拦、缩小的环形视场投影系统.无
收录类别: Ei
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/4208
Appears in Collections:应用光学研究室(二室)_期刊论文

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2009-071.pdf(335KB)期刊论文作者接受稿开放获取View 联系获取全文

作者单位: 中国科学院光电技术研究所

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杨雄. 极紫外投影光刻物镜设计[J]. 光学学报,2009,29(9):2520-2523.
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