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题名:
193nm移相点衍射干涉仪的测量误差分析
作者: 邢廷文; 何国良; 舒亮
刊名: 光电工程
出版日期: 2009
卷号: 36, 期号:2, 页码:67-72
通讯作者: 邢廷文
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 为了提高移相点衍射干涉仪对193 nm投影光刻系统的检测精度,本文对其主要测量误差进行了探讨.在简要介绍了193 nm移相点衍射干涉仪的基本结构和测量原理之后,总结了可能对测量结果产生影响的各种误差及其产生的原因.通过
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/4207
Appears in Collections:应用光学研究室(二室)_期刊论文

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2009-070.pdf(1464KB)期刊论文作者接受稿开放获取View 联系获取全文

作者单位: 中国科学院光电技术研究所

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邢廷文,何国良,舒亮. 193nm移相点衍射干涉仪的测量误差分析[J]. 光电工程,2009,36(2):67-72.
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