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题名:
深紫外深度光刻蚀在LIGA工艺中的应用
作者: 余国彬 ; 姚汉民 ; 胡松
刊名: 微纳电子技术
出版日期: 2002
卷号: 39, 期号:4, 页码:30--32
通讯作者: 余国彬
语种: 中文
ISSN号: 1671-4776
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/419
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余国彬,姚汉民,胡松. 深紫外深度光刻蚀在LIGA工艺中的应用[J]. 微纳电子技术,2002,39(4):30--32.
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