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题名:
Cu/Zr纳米多层膜微结构与力学性能
作者: 苑永涛 ; 方敬忠 ; 刘红 ; 陈志强
刊名: 光电工程
出版日期: 2008
卷号: 35, 期号:10, 页码:17-20
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 本文利用直流磁控溅射方法在石英玻璃基片上制备了一系列自支撑Cu/Zr纳米多层膜,使用箱式电炉对多层膜进行退火处理,利用显微硬度计、X射线衍射仪、扫描探针显微镜表征了多层膜的力学性能与微观结构,研究了不同工艺参数对纳米多层膜性能的影响。研究结果表明:当Cu调制层厚从42 nm增加至140 nm时,多层膜显微硬度从4.9 GPa逐渐降低至4.0 GPa;当Zr调制层厚从3.2 nm增加至4.8 nm时,显微硬度值从6.51 GPa降低至5.64 GPa,硬度值降低13.4%,而从4.8 nm增至8 nm时,显微硬度值变化不大(约5.7 GPa);合适的温度退火时,多层膜微观缺陷消失,表面形貌更均匀,显微硬度增加。利用Chu和Barnett提出的硬度增强理论模型对Cu/Zr纳米多层膜表现出的超硬现象进行了理论分析和解释。
收录类别: Ei
语种: 中文
ISSN号: 1003-501X
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/2093
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苑永涛,方敬忠,刘红,等. Cu/Zr纳米多层膜微结构与力学性能[J]. 光电工程,2008,35(10):17-20.
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