中国科学院光电技术研究所机构知识库
Advanced  
IOE OpenIR  > 微电子装备总体研究室(四室)  > 期刊论文
题名:
纳米光刻对准方法及其原理
作者: 周绍林 ; 唐小萍 ; 胡松 ; 马平 ; 陈旺富 ; 杨勇 ; 严伟
刊名: 微纳电子技术
出版日期: 2008
卷号: 45, 期号:4, 页码:222-230
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 对准技术对光刻分辨力的提高有着重要作用。45nm节点以下的光刻技术如纳米压印等,对相应的对准技术提出了更高的要求。对光刻技术发展以来主要用于接近接触式和纳米压印光刻的对准技术做总结分类,为高精度的纳米级光刻对准技术提供理论研究基础和方向。经过分析,从原理上将对准技术分为几何成像对准、波带片对准、干涉光强度对准、外差干涉对准及莫尔条纹等五种对准方法。最后结论得出基于条纹空间相位的对准方法具有最好的抗干扰能力且理论上能达到最高的对准精度,而其他基于光强的对准方法的精度更易受到工艺涂层的影响。因此,基于干涉条纹空间相位对准的方法在纳米级光刻对准中具有很好的理论前景。
收录类别: 其他
语种: 中文
ISSN号: 1671-4776
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/1931
Appears in Collections:微电子装备总体研究室(四室)_期刊论文

Files in This Item:
File Name/ File Size Content Type Version Access License
2008-227.pdf(1069KB)----开放获取View 联系获取全文

Recommended Citation:
周绍林,唐小萍,胡松,等. 纳米光刻对准方法及其原理[J]. 微纳电子技术,2008,45(4):222-230.
Service
Recommend this item
Sava as my favorate item
Show this item's statistics
Export Endnote File
Google Scholar
Similar articles in Google Scholar
[周绍林]'s Articles
[唐小萍]'s Articles
[胡松]'s Articles
CSDL cross search
Similar articles in CSDL Cross Search
[周绍林]‘s Articles
[唐小萍]‘s Articles
[胡松]‘s Articles
Related Copyright Policies
Null
Social Bookmarking
Add to CiteULike Add to Connotea Add to Del.icio.us Add to Digg Add to Reddit
文件名: 2008-227.pdf
格式: Adobe PDF
所有评论 (0)
暂无评论
 
评注功能仅针对注册用户开放,请您登录
您对该条目有什么异议,请填写以下表单,管理员会尽快联系您。
内 容:
Email:  *
单位:
验证码:   刷新
您在IR的使用过程中有什么好的想法或者建议可以反馈给我们。
标 题:
 *
内 容:
Email:  *
验证码:   刷新

Items in IR are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

 

 

Valid XHTML 1.0!
Copyright © 2007-2016  中国科学院光电技术研究所 - Feedback
Powered by CSpace