IOE OpenIR  > 微电子装备总体研究室(四室)
纳米光刻中莫尔对准模型与应用
周绍林; 陈旺富; 杨勇; 唐小萍; 胡松; 马平; 严伟; 张幼麟
Source Publication光电工程
Volume35Issue:9Pages:27-31
2008
Language中文
ISSN1003-501X
Indexed ByEi
Subtype期刊论文
Abstract在纳米光刻中,采用周期相差不大的两光栅分别作为掩模和硅片上的对准标记。当对准光路通过这两个标记光栅时受到两次调制,发生双光栅衍射及衍射光的干涉等复杂现象,最后形成有规律、且呈一定周期分布的莫尔条纹。周期相对光栅周期被大幅度放大,条纹移动可表征两标记的相对位移,具有很高探测灵敏度,可用于纳米级高精度对准。从傅里叶光学角度分析推导了对准应用中,两频率接近的光栅重叠时莫尔条纹振幅空间近似分布规律。并设计了一组对准标记,能继续将灵敏度提高一倍。通过仿真分析,从大致上定量地验证条纹复振幅分布的近似数学模型以及光刻对准应用中的条纹对准过程。
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/1929
Collection微电子装备总体研究室(四室)
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GB/T 7714
周绍林,陈旺富,杨勇,等. 纳米光刻中莫尔对准模型与应用[J]. 光电工程,2008,35(9):27-31.
APA 周绍林.,陈旺富.,杨勇.,唐小萍.,胡松.,...&张幼麟.(2008).纳米光刻中莫尔对准模型与应用.光电工程,35(9),27-31.
MLA 周绍林,et al."纳米光刻中莫尔对准模型与应用".光电工程 35.9(2008):27-31.
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