IOE OpenIR  > 微电子装备总体研究室(四室)
基于表面等离子体的微纳光刻技术
杨勇; 胡松; 姚汉民
Source Publication微纳电子技术
Issue12Pages:716-719
2008
Language中文
ISSN1671-4776
Indexed By其他
Subtype期刊论文
Abstract首先介绍了光刻技术的发展及其面临的挑战.随着纳米加工技术的发展,纳米结构器件必将成为未来集成电路的基础,而纳米光刻技术是纳米结构制作的基础,基于表面等离子体的纳米光刻作为一种新兴技术有望突破45 nm节点从而极大提高光刻的分辨力.介绍了表面等离子体的特性,对表面等离子体(SPs)在光刻中的应用作了回顾和分析,指出在现有的利用表面等离子体进行纳米光刻的实验装置中,或采用单层膜的超透镜(Superlens),或采用多层膜的Superlens,但都面临着如何克服近场光刻这一难题;结合作者现有课题分析了表面等离子体光刻的发展方向,认为结合多层膜的远场纳米光刻方法是表面等离子体光刻的发展方向.
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/1928
Collection微电子装备总体研究室(四室)
Recommended Citation
GB/T 7714
杨勇,胡松,姚汉民. 基于表面等离子体的微纳光刻技术[J]. 微纳电子技术,2008(12):716-719.
APA 杨勇,胡松,&姚汉民.(2008).基于表面等离子体的微纳光刻技术.微纳电子技术(12),716-719.
MLA 杨勇,et al."基于表面等离子体的微纳光刻技术".微纳电子技术 .12(2008):716-719.
Files in This Item:
File Name/Size DocType Version Access License
2008-223.pdf(447KB) 开放获取CC BY-NC-NDView Application Full Text
Related Services
Recommend this item
Bookmark
Usage statistics
Export to Endnote
Google Scholar
Similar articles in Google Scholar
[杨勇]'s Articles
[胡松]'s Articles
[姚汉民]'s Articles
Baidu academic
Similar articles in Baidu academic
[杨勇]'s Articles
[胡松]'s Articles
[姚汉民]'s Articles
Bing Scholar
Similar articles in Bing Scholar
[杨勇]'s Articles
[胡松]'s Articles
[姚汉民]'s Articles
Terms of Use
No data!
Social Bookmark/Share
File name: 2008-223.pdf
Format: Adobe PDF
All comments (0)
No comment.
 

Items in the repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.