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题名:
无掩模光刻技术研究
作者: 蒋文波 ; 胡松
刊名: 微细加工技术
出版日期: 2008
卷号: 45, 期号:4, 页码:1-3+64
文章类型: 期刊论文
中文摘要: 介绍了无掩模光刻技术的现状和存在的问题,并对几种常见的无掩模光刻技术进行了详细的对比分析。研究表明,扫描电子束光刻具有极高的分辨率,但是生产效率较低;波带片阵列光刻技术已经在理论和实验上取得了广泛的成果,在保持无掩模光刻技术高分辨力的同时,对电子束的低效率将是一种补充,是一种很有潜力的用于制作掩模版的光刻技术。
收录类别: Ei
语种: 中文
ISSN号: 1003-8213
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/1921
Appears in Collections:微电子装备总体研究室(四室)_期刊论文

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蒋文波,胡松. 无掩模光刻技术研究[J]. 微细加工技术,2008,45(4):1-3+64.
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