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题名:
成像干涉光刻技术与离轴照明光刻技术的对比分析
作者: 刘娟 ; 张锦 ; 冯伯儒
刊名: 半导体学报
出版日期: 2005
卷号: 26, 期号:7, 页码:1480-1484
通讯作者: 刘娟
文章类型: 期刊论文
收录类别: 其他
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/1349
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刘娟,张锦,冯伯儒. 成像干涉光刻技术与离轴照明光刻技术的对比分析[J]. 半导体学报,2005,26(7):1480-1484.
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